Dibandingkeun sareng prosés galvanizing sanés, sianidagalvanizingmerlukeun standar handap beberesih substrat saméméh plating.Sanajan kitu, dina trend ayeuna ngaronjatkeun kelas kualitas séng sianida plating lapisan, sababaraha polutan dibawa kana tank plating.Jelas janten hal ngabahayakeun.Kusabab meresihan lapisan galvanizing waktos-consuming tur ngurangan produksi, beberesih ditangtoskeun jeung rinsing éféktif substrat saméméh plating pohara penting.
Cacad sapertos pilem permukaan sareng inklusi permukaan tiasa dipendakan sareng dirawat ku téknik konvensional supados ngaleungitkeun sacara lokal tina permukaan lapisan sédimén.Kaleuwihan busa kabentuk nalika sabun sareng surfaktan sapertos lemak saponifikasi dibawa kana bak.Ongkos sedeng formasi busa bisa jadi teu bahaya.Ayana sajumlah ageung partikel homogen leutik dina tank tiasa nyaimbangkeun lapisan busa, tapi akumulasi seueur teuing partikel padet tiasa nyababkeun ledakan.
Ngagunakeun mat karbon diaktipkeun ngaleupaskeun zat aktif permukaan, atawa ngaliwatan filtration sangkan busa teu stabil teuing, ieu mangrupa ukuran éféktif;Ukuran séjén ogé kudu dilaksanakeun pikeun ngaleutikan bubuka surfaktan.Laju electroplating of coils badag tinakawat galvanisIeu écés ngurangan ku tambahan bahan organik.Sanajan formulasi kimia mempermudah laju déposisi tinggi, déposisi bahan organik teu minuhan sarat tina ketebalan palapis, jadi karbon diaktipkeun bisa dipaké pikeun ngubaran mandi.
waktos pos: 26-09-21